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      案例详情

      光刻胶底膜清洗

      日期:2022-04-09 15:48
      浏览次数:0
      摘要:
      正光刻胶(光阻液)曝光清洗后,会有一部分残留,微波等离子工艺可以很好的去除这部分残胶,并不损伤芯片表面和图形。
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