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光刻胶底膜清洗

日期：2022-04-09 15:48

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摘要：

正光刻胶（光阻液）曝光清洗后，会有一部分残留，微波等离子工艺可以很好的去除这部分残胶，并不损伤芯片表面和图形。

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